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CVD管式气氛炉适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等实验。

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节能型井式气体渗碳炉由炉壳、炉衬、炉盖升降机构、风机、炉罐、加热元件及电控系统等组成。主要用于低碳钢、轴承、齿轮等金属另件的渗碳，氮碳共渗、淬火热处理。