关于 双面抛光 结果1

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适用于各种金属平面的双面打磨、抛光处理。 特点：操作简单、效率高。

一种高精度双面研磨和抛光设备. 它能同时对4片最大2" 的基片进行双面研磨和抛光, 并获得在直径2"区域内TTV 小于1um .所以它是一台在实验室研磨抛光Si, Ge 和氧化物单晶基片的理想工具。

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